高纯金化学分析方法第2部分：ICP-MS-标准加入校正-内标法测定杂质元素的含量GB/T25934.2-2010

高纯金是用于制造电子设备、半导体器件以及光学镜片等高科技领域的重要材料。然而，高纯金中杂质元素的含量对于这些应用起着至关重要的作用，并且需要进行精确的分析和控制。因此，ICP-MS技术在高纯金分析中应用广泛，被认为是最有效的分析方法之一。

在ICP-MS分析中，为了提高分析精度，需要进行标准加入校正和内标法测定。标准加入校正是通过向样品中加入已知浓度的标准物质来校正分析结果，而内标法则是将已知浓度的内标物质加入到样品中，并通过内标和目标元素之间的响应比值来校正分析结果。

GB/T25934.2-2010是针对高纯金分析制定的标准，其中包括了ICP-MS技术的应用要求。该标准要求使用标准加入校正和内标法来测定高纯金中杂质元素的含量，并规定了具体的实验条件和分析方法。

总之，ICP-MS技术在高纯金化学分析中的应用十分重要。通过标准加入校正和内标法测定，可以获得更加准确和可靠的分析结果，为高纯金的应用提供保障。