表面化学分析原子力显微术二硫化钼片层材料厚度测量方法GB/T40128-2021

表面化学分析原子力显微术（AFM）是一种基于扫描探针的高分辨率成像和力测量技术，可以用于对各种纳米尺度下的材料进行表面形貌和生物分子的测量。而二硫化钼（MoS2）片层材料因其独特的电学、光学等性质，越来越受到研究者的关注。为了提供更加可靠的测量手段，中国国家质量监督检验检疫总局和中国国家标准化管理委员会发布了最新版的《表面化学分析原子力显微术二硫化钼片层材料厚度测量方法》标准：GB/T40128-2021。该标准规定了MoS2片层材料在测量过程中需要注意的关键因素和具体操作步骤。 一、样品制备 1. 样品应保持清洁，避免表面存在脏污； 2. 用化学溶剂或等离子体清洗器对样品进行处理，确保表面干净无障碍物； 3. 样品应在低温下存放，以防止其受到氧化或水分的影响。 二、扫描参数 1. 扫描探针的选择应根据样品性质和目的进行调整； 2. 扫描速度、扫描范围、力反馈等参数也应根据实际情况进行设置； 3. 测量前应对探针进行校准，确保其工作状态正常。 三、数据处理 1. 在得到原始数据后应先进行裁剪和背景去除处理； 2. 使用适当的软件对数据进行处理，得到所需的结果； 3. 提取出MoS2片层材料的高度并计算出其厚度。 四、实验室条件 1. 实验室环境应保持稳定，避免空气流动和温度变化； 2. 实验室设备应具有高精度、高稳定性，以保证测量的准确性和可重复性。 综上所述，《表面化学分析原子力显微术二硫化钼片层材料厚度测量方法》标准GB/T40128-2021规范了MoS2片层材料在AFM测量方面需要注意的关键因素和具体操作步骤。这些要求对于提高MoS2片层材料的测量精度和准确性具有重要意义。