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硅基MEMS制造技术体硅压阻加工工艺规范GB/T32815-2016
添加时间:2023/6/29 12:46:18 阅读次数:
随着科技进步和人类对高精度、高灵敏度检测的需求增强,微电子机械系统(MEMS)在多个领域得到了广泛应用。其中,硅基MEMS是应用最为广泛的一种技术之一。而体硅压阻加工作为硅基MEMS制造技术中的一种重要工艺,其规范化程度也越来越高。本文将介绍体硅压阻加工工艺规范GB/T32815-2016的相关内容。
体硅压阻加工是一种利用压力、热力等手段,在硅晶圆上制造微米级结构的技术。该工艺具有成本低、生产周期短、制造精度高等优点,因此被广泛应用于MEMS等领域。而GB/T32815-2016则是针对该工艺进行的规范文件,主要包括如下内容:
- 术语和定义:该部分主要对文中所涉及的专业术语进行了定义,以确保读者能够准确理解文中所述内容。
- 规范性引用文件:该部分列举了与本规范文件相关的其他标准文件,以便读者可以更全面地了解相关内容。
- 加工工艺:该部分详细阐述了体硅压阻加工的具体流程、工艺参数等方面的内容。其中,包括了制备硅片、极板曝光、横向蚀刻、纵向蚀刻、后处理等多个环节。通过遵循GB/T32815-2016中规定的加工工艺,能够有效提高产品的制造精度和质量。
- 检测方法:该部分介绍了常用的体硅压阻加工产品检测方法,包括椭圆度、平整度、形位偏差、表面粗糙度等方面的检测。在产品制造完成后,通过这些检测手段能够及时发现问题并进行改进。
总之,GB/T32815-2016是一份对硅基MEMS制造技术体硅压阻加工工艺进行规范化的文件,其详细阐述了加工流程、参数等方面的内容,并提供了常用的检测方法。通过遵循该规范,能够有效提高产品的制造精度和质量。
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