了解电子工业用气体锗烷GB/T31987-2015

锗烷是一种无色、易燃、有毒的气体，因具有优良的半导体材料特性和化学反应活性，成为当今电子工业领域重要的材料之一。

锗烷的特点

1. 优良的半导体材料特性：锗烷可作为制备锗薄膜及其他锗化合物的前体材料；

2. 化学反应活性强：锗烷对空气、水分和氧化剂等都有较强的反应性，使得它在化学气相沉积（CVD）等方面有着广泛的应用。

锗烷的应用

锗烷在电子工业中主要用于半导体器件材料和薄膜制备。其应用场合包括：

• 制备锗薄膜：利用锗烷进行化学气相沉积（CVD）制备锗薄膜，用于生产太阳能电池、光电探测器等器件；
• 制备锗晶圆：锗烷是一种常用的锗晶圆制备材料，可制备高纯度的锗单晶片；
• 其他半导体材料制备：锗烷还可作为其他锗化合物的前体材料，如GeH2和GeF4。

GB/T31987-2015 国家标准介绍

GB/T31987-2015 是我国电子工业中使用锗烷的行业标准，该标准涵盖了锗烷在电子工业中的技术要求、试验方法、包装、运输和贮存等方面。

该标准主要规定了以下内容：

1. 锗烷的技术要求，包括物理和化学性质、纯度、杂质含量等；
2. 锗烷的试验方法，包括外观、密度、溶解度、气味、水分、酸度、碱度等指标的测定方法；
3. 锗烷的包装、运输和贮存要求，包括储存条件、防火措施、运输标识等。

总结

在电子工业用气体中，锗烷以其优良的半导体材料特性和化学反应活性，成为了重要的材料之一。国家标准GB/T31987-2015也为锗烷的使用提供了详细的规范。