真空金属镀层厚度测试方法电阻法

真空金属镀层厚度测试方法电阻法

国家标准 GB/T15717一2021 代替GB/T15717一1995 真空金属镀层厚度测试方法电阻法 Iestmetholforvacuu-lep0sitedmetalthiekness一Eleetricresistaneemethod 2021-10-11发布 2022-05-01实施 国家市场监督管理总局 发布 国家标涯花管理委员会国家标准
GB/15717一2021 前 言 本文件按照GB/T1.1一2020<标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定 起草 本文件代替GB/T15717一1995《真空金属镀层厚度测试方法电阻法》,与GB/T15717一1995相 比,除结构调整和编辑性改动外,主要技术内容变化如下 -修改了真空金属镀铝层厚度测量装置结构示意图(见图1,1995年版的3.2) 修改增加了测量头(厚度、材质及其导电率)、橡胶板(厚度、硬度及其表面)和气动压紧方式、气 源压力的要求(见第5章,1995年版的3.2) 修改了试样尺寸的要求(见6.l,1995年版的4.l); 修改了试验步骤中GB/T2918规定的试验环境(见7.1,1995年版的5.1) 修改了试验步骤中每次测量前用无水乙醇擦拭仪器的测量头的要求见7.2,1995年版的 5.2); 删除了试验步骤中每次测量前仪器必须校零的要求(见1995年版的5.4); 修改了试验步骤中测量试样的电阻值的要求(见7.4,l995年版的5.5) 修改了金属镀层的均匀度计算公式(见8.3,1995年版的6.3) 增加了试验报告中"当测量头材质为非铜材质时,应注明群鼠头材质"见第9章中o),195年 版的第7章] 请注意本文件的某些内容可能涉及专利 本文件的发布机构不承担识别专利的责任 本文件化由全国包装标准化技术委员会(sAc/Tc49)提出并归口 本文件起草单位;山东省产品质量检验研究院、黄山永新股份有限公司、临沂金锣文瑞食品有限公 司、河南银金达彩印股份有限公司、德州诚达精彩印务有限公司、济南三泉中石实验仪器有限公司、青州 超兰包装材料有限公司、青州宏科包装材料有限公司,中包包装行业生产力促进中心有限公司、青岛永 昌塑业有限公司、干将新材料有限公司、嘉兴星越包装材料有限公司、江苏泰来包装工程集团有限公司 本文件主要起草人:王微山、张智力、杨学军、申丽霞、许超、徐玮,胡玲俐、倪来学、沙连峰、翟玉琳、 常海潮、刘新川、王国华、王冠中、王娜、周静,周晶、毛兵,王天佑 本文件于1995年首次发布,本次为第一次修订
GB/T15717一2021 真空金属镀层厚度测试方法电阻法 范围 本文件规定了采用电阻法测试绝缘软基材表面的真空金属镀层厚度的试验原理,试验装置、试样制 备、试验步骤、试验结果的计算和表示,以及试验报告 本文件适用于绝缘软基材表面的真空金属镀层厚度的测量 规范性引用文件 下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款 其中,注日期的引用文 件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于 本文件 GB/T2918塑料试样状态调节和试验的标准环境 术语和定义 本文件没有需要界定的术语和定义 试验原理 本试验依据欧姆定律测量规定长度和宽度试样的金属镀层电阻值,以方块电阻(/口)表示金属锁 层的厚度或直接计算其厚度 试验装置 本试验使用真空金属镀层厚度测量装置,其结构如图1所示 测量装置的电阻测量误差为士1% 测量装置宽度不小于100mm,两测量头间的距离精度为士0.1mm;测量头的厚度为10mm.宜为铜材 质,也可以是其他导电率较好的材质(其他材质与铜材质测量头所测的数据不可比较);橡胶板厚度不小 于3mm,邵尔A硬度为7080,表面应平整光滑;宜采用气源压力为0.5MPa一0.7MPa的气动压紧 方式
GB/T15717一202 尝 i电书 u0o0 3 e O0. Lm mm D 00r 标引序号说明 直流电桥; 导线; 测量头 -测量头连接板; 被测样品 橡胶板 图1真空金属镀层厚度测量装置示意图 6 试样制备 mm士0.1 6.1试样尺寸:沿幅宽裁取试样 试样的长度不小于140mm,宽度为1001 mm 试样宽度小 于100mm时,以实际尺寸作为试样宽度 6.2试样数量:不少于5片 6.3试样表面应光滑平整,无明显镀层脱落,无折痕、污物、溅射点、划伤等缺陷 试验步骤 7.1按GB/T2918规定将金属镀层测量仪与试样放置在23C士3,相对湿度50%士10%相对湿度 环境中,4h后在同等环境下进行测量. 7.2每次测量前用无水乙醉擦拭仪器的测量头,确保将粘附在测量头上的金属锁层碎屑清除干净 将试样平放在测量仪的橡胶板上,使测量头与金属镀层接触良好 7.3 沿试样长度方向,距边缘20mm处测量5片试样,每片试样测量一次,记录每次测量的电阻值 7.4
GB/15717一2021 试验结果的计算和表示 8.1金属镀层的方块电阻 金属镀层的方块电阻按式(I)计算 R Q/口= 式中: Q/--方块电阻,单位为欧姆(Q); 被测量金属镀层的电阻值,单位为欧姆(Q) R 试样实际测量长度与宽度的比值 取5次试验结果的平均值,保留三位有效数字 8.2金属镀层厚度 金属镀层厚度按式(2)计算 d= a石 式中: 金属镀层厚度,单位为毫米(mm) 电阻率,单位为10-欧姆平方毫米每毫米(10-Qmm'/mm) Q/口 方块电阻,单位为欧姆Q. 取5次试验结果的平均值,保留三位有效数字 注:电阻率随温度变化而变化,电阻率与温度曲线图见附录A 8.3金属镀层的均匀度 金属镀层的均匀度按式(3)计算 Q/口m(或Q/口mm)一Q/口 ×100 n口 式中 金属镀层的均匀度,% Q/口m -最大方块电阻值,单位为欧姆(Q); 最小方块电阻值,单位为欧姆Q); Q2/口i Q/口--方块电阻平均值,单位为欧姆(Q) 按式(3)计算出金属镀层均匀度的最大值和最小值,结果保留二位有效数字 8.4金属镀层厚度表示 真空金属镀层的厚度可以用厚度值表示,也可以用方块电阻值(Q/口)表示 试验报告 试验报告应包括以下内容
GB/T15717一202 试验依据(本文件编号); a b 样品名称,规格、型号、等级; c 金属镀层的方块电阻、金属镀层厚度和均匀度;测量头材质为非铜材质时,注明测量头材质; 试验环境; d 试验人员及日期; e f 其他有必要说明的事项
GB/15717一2021 附录 A 资料性 铜/铝电阻率与温度变化曲线图 铜/铝电阻率与温度变化曲线图见图A.1 100 90 80 70 s 40 30 20 10 Qmmirp 0.01500.01750.02000.02250.,02500.02750.03000.03250.03500.03750.0400 注:21时,铜和铝的电阻率分别取值为0.0172×10-》nmm?/mm,0.0266×10-了nmm=/mm; 22笔时,铜和铝的电阻率分别取值为0.0173×10Q”mm:/mm,0.0267×10-nmm=/mm; C时,铜和解的电阻率分 73X10"n 别 23 ]取值为0,017 Qmm'/mmm,0,0268×10-Qmm'/mm:; 24C时,铜和铝的电阻率分别取值为0.o174X10Q”mm'/mm,0.0269×10Qmm'/mm; 25C时,铜和铝的电阻率分别取值为0.0175×10-n”mm'/mm.0.0270×10-Q”mm'/mm 图A.1铜/铝电阻率与温度变化曲线图

真空金属镀层厚度测试方法电阻法GB/T15717-2021解读

随着科技的不断进步和应用，真空金属镀层在工业生产中得到了广泛的应用。然而，对于这些镀层的厚度检测一直是一个难题，因为它们经常处于高温、高压或腐蚀性环境下。近年来，一种新型的检测方法——电阻法，逐渐成为了行业内的主流技术，同时也得到了国家标准GB/T15717-2021的认可。 作为专业人士，了解该标准的要求和实施方法，可以更好地指导我们进行真空金属镀层的厚度测试和质量控制。 首先，电阻法是通过测量镀层的电阻值来确定其厚度的方法。根据该标准，需要使用电阻测试仪器，将测试电极放置在被测样品的表面和底部，将电流施加到电极上，通过计算电流强度和电阻值的比值，可以得出镀层的厚度。这种方法不仅可以对金属镀层进行测试，对于非金属材料的涂层也同样适用。 其次，该标准还规定了测试时需要注意的一些技术要点和步骤。例如，在进行测量前需要校准测试仪器，检查样品表面的平整度和表面处理质量等因素。同时，还需要对测试数据进行处理和分析，确保测试结果的准确性和可重复性。 最后，该标准还详细介绍了电阻法测试的应用范围和限制。由于测试方法本身的原理和特点，电阻法并不适用于所有类型的涂层和镀层，例如对于非均匀或具有多层结构的样品，可能会导致测试结果的误差。因此，在实际应用中需要针对具体情况进行合理选择和严格控制。 总之，真空金属镀层厚度测试方法电阻法GB/T15717-2021的发布标志着我国相关技术的一次重大进步。专业人士应当认真学习该标准，掌握其中的技术要点和实施方法，尽可能地应用于实际生产环节中，提高产品质量和市场竞争力。

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